第619章 下一代光源的抉择 (5 / 6)

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        见到跟在苏远山身后的梁梦松，林本坚倒没什么，赵凯东则是微怔了一下——此时张汝金不在，按照规矩，负责接待陪同苏远山的显然应该是德远的二把手来……

        按照职位算，梁梦松只能排到德远的第五。

        这架势，看来苏远山是真铁了心的要全力推制程突破了。

        在接待室落座后，苏远山简单问了一下目前的进度——在光源领域，因为林本坚的加入，赵凯东团队进展得很快，他们即将完成193nm的准分子激光光源技术。

        虽然比起国外同行落后了差不多一年多，但好歹算是追上了。而且就现有的技术和理论来看，193nm将会成为很长一段时间内都无法突破的光源。否则灯塔国那边也不会成立EUV联盟，找寻新的出路了。

        当然，对于如何跨越193nm，除了EUV之外，也有其他的方案。譬如尼康和SVG就在准备攻克157nm的HeF2激光，以及电子束投射(EPL)，离子投射(IPL)、甚至X光等等……

        总之，就是解决的办法一箩筐，放眼望去全是路。

        但具体哪一条是真正的正道，谁也不知道。

        嗯，只有苏远山一个人知道。

        因为这些方案，都败给了眼前这个乐呵呵的老爷子。

        “林叔，赵叔，193nm之后你们的想法是什么？”坐到沙发上，苏远山端起茶杯抿了一口。

        赵凯东和林本坚对视了一眼，随后笑着道：“193nm看样子都要停留很久，你这么着急？”

        “我本来是不着急的。”苏远山很坦白：“主要是老美那边搞EUV，搞得我有点心慌。”

        赵凯东便笑着摇了摇头：“虽然说光源要比光刻机领先很多，但193nm的光源现在都尚未用在光刻机上，你心慌也没用。”

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