第371章 鹊桥 (2 / 8)

        “动态补偿……”梁孟松喃喃自语，眼中精光闪烁，“用软件和算法去弥补硬件上的不足。用我们最擅长的信息技术去解决他们引以为傲的精密光学问题。”

        他脸上兴奋的表情只出现了很短暂的时间。

        很快表情就转变成工匠的严谨和质疑。

        浸淫半导体行业数十年，梁孟松当然知道“实时动态补偿”的概念，但他更清楚，将这项技术应用于CG-1这类光刻机上的难度，简直是几何级数的提升。

        “林总，动态补偿从理论上而言当然可行，但我们都很清楚，您也亲自参与过我们生产线的构建，您很清楚理论上可行和实际工程上落地之间的差距。

        很多时候他们之间很可能横亘着马里亚纳海沟。”梁孟松的语气变得急切，他必须让林燃明白其中的巨大工程鸿沟。

        “在实际的工业中，动态补偿在半导体领域也有应用，但那些场景的时间常数和运动幅度，与光刻机核心曝光的场景完全不同。”

        “最常见的应用之一是CMP，也就是我们俗称的化学机械平坦化。

        在CMP设备中，我们使用实时监测来调整研磨力的压力分布，以补偿晶圆在研磨过程中厚度的不均匀性。

        这个过程是低速的，调整频率可能在秒级甚至分钟级。

        设备有足够的时间去采集数据、计算修正量，然后执行。

        另一个我能立刻想到的应用场景是等离子刻蚀。

        我们会在刻蚀腔内用光谱仪实时监测等离子体的状态，然后微调气体流量或射频功率，以补偿刻蚀速率的漂移。

        这个反馈频率可能达到毫秒级，但它修正的是化学环境，不是直接修正光学焦距。”

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